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電子級氫氟酸，半導體行業的血脈
半導體制造業目前有兩種蝕刻技術，干式蝕刻和濕式蝕刻

1、干式蝕刻 - 優點 精度高，安全。缺點 常能抵 成本高

2、濕式蝕刻 - 優點 便宜，產能高。缺點 精度低，危險性高，不宜長期庫存。

氟化氫就應用于濕式蝕刻。因為價格便宜，高產能，所以相對干式蝕刻節省成本。所以韓國半導體廠商一直都從日本進口即買即用的氟化氫。

目前，日本自己稱只是取消了亞洲唯一的優惠國待遇，現在一視同仁，但不排除日本故意刁難，審核超過90天，影響工廠正常運作。所以將來要么補助本國佛化氫企業提高產能，要么轉向干式蝕刻制造半導體。

其實半導體工業大趨勢也是干式蝕刻，隨著將來7納米的量產以及需求更高精度半導體制造技術，濕式蝕刻慢慢將被干式取代。

電子級氫氟酸主要應用于半導體制造過程的清洗和刻蝕等工序，它的純度和潔凈度對集成電路的良品率、電性能及可靠性都有著十分重要的影響。

電子級氫氟酸可被分為EL、UP、UP-S、UP-SS、UP-SSS等級別。其中UP-SSS級別（相當于SEMI G5質量標準）的氫氟酸純度最高，是12寸晶圓及更高規格的電子半導體產品制造環節必須用到的關鍵材料。